Ossidu tas-Silikon

Deskrizzjoni

Ossidu tas-Silikon SiO₂,magħrufa wkoll bħala Dijossidu tas-Siliku, Silika u Kwarz, trab abjad u bla riħa, CAS Nru.7631-86-9, punt tat-tidwib 1710°C, densità 2.2-2.6g/ml, li ma tantx jinħall fl-ilma, huwa tip ta 'indiċi baxx materjal użat b'mod aktar wiesa 'minn kwalunkwe kompost kristallin ieħor.Ossidu tas-Silikon ta 'Purità Għolja SiO₂ huwa purifikat għal 5N 99.999% trab tal-mikron li huwa stabbli fin-natura kimika.Nano Partikuli Ossidu tas-Silikon SiO₂ 99.9% fid-daqs ta '7nm u 20nm huwa trab sferiku abjad amorfu bla togħma, mingħajr tniġġis, li jippossjedi ħafna karatteristiċi speċjali bħal effett ta' daqs quantum, effett tal-wiċċ, effett ta 'mina makro-quantum.Ossidu tas-Silikon SiO₂fil-Punent Minmetals (SC) Corporation jistgħu jiġu kkunsinnati fid-daqs ta '-200 + 500 malji submicron trab, u 7nm jew 20nm nano trab f'pakkett ta' 25kg f'tanbur tal-kartun b'borża tal-plastik ġewwa, jew bħala speċifikazzjoni personalizzata għas-soluzzjonijiet perfetti.

Applikazzjonijiet

Ossidu tas-Silikon ta 'Purità Għolja SiO₂jew Silika jew Kwarz, 99.999% trab mikron purità, huwa primarjament użat biex jipproduċi ħġieġ ottiku, ħġieġ tal-kwarz, fibra ottika għat-telekomunikazzjoni, strument ottiku, griġjol czochralski, partijiet tal-magni tal-kwarzware, kisi ottiku u materjali tal-kisi tal-film irqiq, komponenti elettroniċi, lubrikanti, aġenti kontra l-adeżjoni, u aġent defoaming eċċ SiO₂jista 'jintuża wkoll f'kisi b'ħafna saffi għal mirja tal-lejżer, kisjiet kontra r-rifless, splitters tar-raġġi, u capacitors ta' film irqiq.Nano Partikuli Ossidu tas-Silikon SiO₂99.9% huwa għall-preparazzjoni ta 'katalizzatur, filtri, mediċina, materjal ta' pakkett elettroniku, medju manjetiku, kompost rinfurzat bil-fibra, ċeramika, kożmetiċi, materjali antibatteriċi eċċ.

Inkjesta issa

Dettalji

Tikketti

Speċifikazzjoni Teknika

SiO₂

Dehra	Kristall
Piż Molekulari	60.08
Densità	2.648 g/ċm³
Punt tat-tidwib	1600-1725 °C
CAS Nru.	7631-86-9

Nru.	Oġġett		Speċifikazzjoni Standard
1	Purità SiO₂≥		Impurità(PCT jew PPM Max kull wieħed)
2	3N	99.9%	Ca/Mg/Na/Cu/Mn/Co/Pb/N/S 0.001, Fe/Ni/K 0.002	% PCT
	5N	99.999%	Cr/Mn/Co/Sn/Na/Ni/Cu/V 0.5, Al/Fe/Pb/Ti/Mg 1.0	Total ≤10
3	Daqs		7nm, 20nm trab għal purità 3N, -200 + 500meah trab għal purità 5N
4	Ippakkjar		25kgs f'borża minsuġa jew tanbur tal-kartun b'borża tal-plastik ġewwa

Ossidu tas-Silikon ta 'Purità Għolja SiO₂99.999% 5N u Nano Particle Silicon Oxide SiO₂99.9% 3N fil-Western Minmetals (SC) Corporation jistgħu jiġu kkunsinnati fid-daqs ta '-200 + 500 malji submicron trab, u 7nm jew 20nm nano trab f'pakkett ta' 25kg f'borża minsuġa jew tanbur tal-kartun b'borża tal-plastik ġewwa, jew bħala speċifikazzjoni personalizzata biex is-soluzzjonijiet perfetti.

Ossidu tas-Silikon ta 'Purità Għolja SiO₂jew Silika jew Kwarz, 99.999% trab tal-mikron purità 5N, huwa primarjament użat biex jipproduċi ħġieġ ottiku, ħġieġ tal-kwarz, fibra ottika għat-telekomunikazzjoni, strument ottiku, griġjol czochralski, partijiet tal-magni tal-kwarzware, kisi ottiku u materjali tal-kisi tal-film irqiq, komponenti elettroniċi, lubrikanti , aġenti kontra l-adeżjoni, u aġent defoaming eċċ SiO₂jista 'jintuża wkoll f'kisi b'ħafna saffi għal mirja tal-lejżer, kisjiet kontra r-rifless, filtri, splitters tar-raġġi, u capacitors ta' film irqiq.Nano Partikuli Ossidu tas-Silikon SiO₂99.9% min, grad ta 'partiċelli nano, huwa għall-preparazzjoni ta' katalizzatur, filtri, mediċina, materjal ta 'pakkett elettroniku, medju manjetiku, kompost rinfurzat bil-fibra, ċeramika, kożmetiċi, materjali antibatteriċi u pigment eċċ.